納米氮化硅的特性及應用

納米氮化硅VK-SN100、粉通過特殊工藝方法制備，純度高，粒徑小，分布均勻，比表面積大，表面活性高，松裝密度低，紫外線反射率為95%以上和吸收紅外波段的吸收率在97%以上，器件的成瓷溫度低，尺寸穩定性好，機械強度高，耐化學腐蝕性能好。 

一、Si3N4（VK-SN100）的特性

二、氮化硅的詳細性能指標如下：

1、耐熱，在常壓下，Si3N4沒有熔點，于1870℃左右直接分解，可耐氧化到1400℃，實際使用達1200℃(超過1200℃力學強度會下降)。

2、熱膨脹系數小（2.8-3.2）×10-6/℃，導熱系數高，抗熱震，從室溫到1000℃熱沖擊不會開裂。

3、摩擦系數小（0.1），有自潤滑性，（加油的金屬表面摩擦系數0.1-0.2）。

4、化學性質穩定，耐腐蝕，除氫氟酸外不與其他其他無機酸反應，800℃干燥氣氛下不與氧發生反應，超過800℃，開始在在表面生成氧化硅膜，隨著溫度升高氧化硅膜逐漸變穩定，1000℃左右可與氧生成致密氧化硅膜。可保持至1400℃基本穩定。

5、氮化硅硬度高，耐磨損，莫氏硬度僅次于金剛石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅，抗機械沖擊。

6、韌性大，可采用氮化硅纖維增韌，使其高溫強度穩定。